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晶體硅太陽能電池的制造工藝流程
編輯:蘇州鑫晶威新能源科技有限公司   時間:2018-06-01

晶體硅太陽能電池的制造工藝流程說明如下:

(1)切片:采用多線切割,將硅棒切割成正方形的硅片。

(2)清洗:用常規的硅片清洗方法清洗,然后用酸(或堿)溶液將硅片表面切割損傷層除去30-50um。

(3)制備絨面:用堿溶液對硅片進行各向異性腐蝕在硅片表面制備絨面。

(4)磷擴散:采用涂布源(或液態源,或固態氮化磷片狀源)進行擴散,制成PN+結,結深一般為0.3-0.5um。

(5)周邊刻蝕:擴散時在硅片周邊表面形成的擴散層,會使電池上下電極短路,用掩蔽濕法腐蝕或等離子干法腐蝕去除周邊擴散層。

(6)去除背面PN+結。常用濕法腐蝕或磨片法除去背面PN+結。

(7)制作上下電極:用真空蒸鍍、化學鍍鎳或鋁漿印刷燒結等工藝。先制作下電極,然后制作上電極。鋁漿印刷是大量采用的工藝方法。

(8)制作減反射膜:為了減少入反射損失,要在硅片表面上復蓋一層減反射膜。制作減反射膜的材料有MgF2,SiO2,Al2O3,SiO,Si3N4,TiO2,Ta2O5等。工藝方法可用真空鍍膜法、離子鍍膜法,濺射法、印刷法、PECVD法或噴涂法等。

(9)燒結:將電池芯片燒結于鎳或銅的底板上。

(10)測試分檔:按規定參數規范,測試分類。

   太陽能電池片回收 晶體硅太陽能電池回收 鑫晶威新能源

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